Name: AlSc-Sputtertarget

CAS-Nr.: 7429-90-5 / 7440-20-2

Rezeptur: Al-Sc (Al:Sc=80:20 at%, Al:Sc=70:30 at% oder kundenspezifische Zusammensetzungen)

Reinheit: 99,9 %-99,99 %

Größe: 6 Zoll Durchmesser x 0,125 Zoll oder Sonderanfertigung

Produktionsprozess:

Vakuum-Induktionsschmelzen VIM

Bearbeitung mit CNC auf Maß

Indium-Bonding auf sauerstofffreier Kupfer-Trägerplatte

Das Aluminium-Scandium-Sputter-Target ist eine Art Filmbeschichtungsmaterial aus einer Aluminium-Scandium-Legierung. Daher haben sie ähnliche physikalische und chemische Eigenschaften.

Anwendung:

AlSc-Sputtering-Targets wurden für die Beschichtung von Flugzeugschotts und Tragflächen verwendet, und AlSc-Legierungen wurden in verschiedenen rotierenden und beweglichen Getrieben sowie in Kraftstoffen und Abgassystemen verwendet. Produkte aus einer Aluminium-Scandium-Legierung haben ein großes Potenzial in der Luft- und Raumfahrtindustrie.

Mit ihren herausragenden Eigenschaften geringer Dichte, aber hoher Festigkeit, ist die Aluminium-Scandium-Legierung ein bevorzugtes Produkt für die Außenhülle von elektronischen Produkten. Auch die Verwendung von Aluminium-Scandium-Targets zur Beschichtung der Oberfläche anderer Materialien verbessert die Haltbarkeit und Langlebigkeit des Gehäuses. Neben dem Elektronikgehäuse werden Sputtertargets aus einer Aluminium-Scandium-Legierung auch für interne Komponenten wie die Beschichtung der Halbleiterchips und des Sensors verwendet.

Anwendung des AlSc-Sputter-Targets auf MEMS:

Auf dem Weg in die neue 5G/6G-Ära ist neben Bandbreite und Datenrate ein weiterer kritischer Parameter die Signalintegrität, die einen hohen Q-Wert erfordert. Der Q-Wert hängt mit den piezoelektrischen Eigenschaften der in der Anwendung verwendeten Dünnschichtmaterialien zusammen. Gegenwärtig werden AlSc-Legierungen auf verschiedenen Sc-Niveaus verwendet, wobei ein höherer Sc-Gehalt zu besseren piezoelektrischen Eigenschaften führt.

Piezoelektrische AlSc-Dünnschichtmaterialien werden zunehmend in Automobil-, Industrie- und persönlichen elektronischen Geräten verwendet. Zu den Anwendungen gehören PMUT-basierte Fingerabdrucksensoren und Gestenerkennungsgeräte, MEMS-Mikrofone, resonatorbasierte chemische Sensoren und medizinische Sensoren. Darüber hinaus werden zunehmend scandiumdotierte Aluminiumnitridfilme benötigt, um HF-Filter für 5G-Netzwerkanwendungen zu ermöglichen.

Häufig gestellte Fragen:

Was ist das Sputtertarget?

Ein Sputter-Target ist ein Material, das verwendet wird, um dünne Filme in einer Technik zu erzeugen, die als Sputter-Abscheidung oder Dünnfilm-Abscheidung bekannt ist. Die meisten Sputter-Target-Materialien sind metallische Elemente oder Legierungen, obwohl es einige Keramik-Targets gibt, die gehärtete dünne Beschichtungen für verschiedene erzeugen Werkzeug.

Sputtern ist eine Technologie, die verwendet wird, um einen dünnen Film auf einem Siliziumwafer, Glas oder einem anderen Substrat zu bilden. In einem in einer Sputtermaschine aufrechterhaltenen Vakuumzustand wird ein Sputtertarget mit Argonionen beschossen. Dadurch werden Atome oder Moleküle vom Sputtertarget emittiert. Die Atome oder Moleküle werden abgeschieden und bilden einen dünnen Film auf dem Substrat. Ein Sputtertarget ist das Objekt des Ionenbeschusses beim Sputtern.

Wofür wird ein Aluminium-Scandium-Sputtering-Target verwendet?

AlSc-Sputter-Target ist eine Art Filmbeschichtungsmaterial aus einer Aluminium-Scandium-Legierung. Es wird verwendet, um einen dünnen Film aus Aluminium-Scandium zu erzeugen, der eine hohe piezoelektrische Konstante verspricht, die etwa zehnmal höher ist als die einer herkömmlichen AlN-Legierung. Qualitativ hochwertiges Al-Sc-Sputter-Tagarget ist ein kritisches Material, um akustische Volumenwellen (BAW) zu erzeugen.

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